石墨烯納米硅高速研磨分散機(jī)

石墨烯自身的間內(nèi)躍遷及等離子體振蕩帶來(lái)的獨(dú)特光學(xué)特性，用于紅外光探測(cè)有著突出的優(yōu)勢(shì)。但也存在著明顯的劣勢(shì)：本征石墨烯自身由于光吸收率低、缺乏光增益機(jī)制，導(dǎo)致石墨烯探測(cè)器的光響應(yīng)率較低；石墨烯自身的光生載流子壽命短，僅皮秒左右，導(dǎo)致光生載流子難以有效收集，也嚴(yán)重影響探測(cè)器的光響應(yīng)率，石墨烯探測(cè)器的低響應(yīng)率無(wú)法滿足實(shí)際應(yīng)用的需要。目前，通過(guò)對(duì)石墨烯進(jìn)行量子點(diǎn)修飾、構(gòu)筑 PN 結(jié)、分子或金屬摻雜及尺寸量子化等方式打開(kāi)石墨烯帶隙、石墨烯與等離子體納米結(jié)構(gòu)結(jié)合、石墨烯與微腔或硅波導(dǎo)集成等多種方法，可以不同程度地提高石墨烯探測(cè)器的光響應(yīng)率，以達(dá)到或接近實(shí)際應(yīng)用的需要。

由于鋰離子電池具有高容量、無(wú)記憶效應(yīng)、快速可逆充放電、高庫(kù)倫效率等優(yōu)點(diǎn)，其已在便攜式電子產(chǎn)品如手機(jī)、筆記本電腦、數(shù)碼相機(jī)等中得到廣泛應(yīng)用。然而再近二十年來(lái)，人們?cè)俅笕萘夸囯x子二次電池的研究商進(jìn)展緩慢。為滿足對(duì)高容量鋰離子二次電池的需求，開(kāi)發(fā)高容量、低成本的新型電極材料具有很高的研究?jī)r(jià)值。

  硅石一種理想的鋰離子電池負(fù)極材料，其具有很高的理論儲(chǔ)鋰容量以及較低的儲(chǔ)理點(diǎn)位。而在充放電過(guò)程中，硅極材料的體積效應(yīng)使得該材料容易粉化，進(jìn)入從集流體上剝落，從而導(dǎo)致容量迅速衰減。而且，硅基材料的較差的循環(huán)穩(wěn)定性大大限制了其應(yīng)用

 石墨烯石油SP2雜化碳原子再二維平面以六角網(wǎng)格形式排列形成的準(zhǔn)二維材料。因其柔性結(jié)構(gòu)、高的縱橫比、優(yōu)異的導(dǎo)電性和化學(xué)穩(wěn)定性。

SID的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤?？筛鶕?jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） 研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?/span> 在對(duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)指定工作頭來(lái)滿 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預(yù)期的應(yīng)用。

GMD2000研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

研磨分散機(jī)的特點(diǎn)：

1、 線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

 2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

3、 定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

5、 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求

石墨烯納米硅高速研磨分散機(jī)